特許

J-GLOBAL ID：200903091667607656

パターン形成体およびその製造方法

発明者： 小幡 勝也
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (2件)： 山下 昭彦 ,  岸本 達人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-269071
公開番号（公開出願番号）：特開2004-109253
出願日： 2002年09月13日
公開日（公表日）： 2004年04月08日
要約：

【課題】本発明は、簡便な工程での形成が可能であり、フォトマスクを介する方法や電子線描画を用いる方法等によりエネルギーをパターン状に照射しなくとも、パターン形成が可能なパターン形成体およびその製造方法を提供することを主目的とするものである。【解決手段】上記目的を達成するために、本発明は、光触媒の作用を阻害しまたは低下させる作用を有し、かつ光触媒反応阻害物質を含有する光触媒反応阻害性基材と、前記光触媒反応阻害性基材上にパターン状に形成されている遮蔽層と、前記遮蔽層がパターン状に形成されている前記光触媒反応阻害性基材上に成膜され、エネルギー照射により表面の濡れ性が変化する光触媒含有層とを有することを特徴とするパターン形成体を提供する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

光触媒の作用を阻害しまたは低下させる作用を有し、かつ光触媒反応阻害物質を含有する光触媒反応阻害性基材と、前記光触媒反応阻害性基材上にパターン状に形成されている遮蔽層と、前記遮蔽層がパターン状に形成されている前記光触媒反応阻害性基材上に成膜され、エネルギー照射により表面の濡れ性が変化する光触媒含有層とを有することを特徴とするパターン形成体。

IPC (7件)：

G02B5/20 ,  B05D1/36 ,  B05D3/06 ,  B05D7/24 ,  G02B3/00 ,  H05B33/10 ,  H05B33/14

FI (7件)：

G02B5/20 101 ,  B05D1/36 Z ,  B05D3/06 Z ,  B05D7/24 303B ,  G02B3/00 A ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A

Fターム (34件)：

2H048BA02 ,  2H048BA64 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  3K007AB18 ,  3K007DB03 ,  3K007FA01 ,  4D075AE03 ,  4D075BB41Z ,  4D075CA37 ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB01 ,  4D075DB13 ,  4D075DB14 ,  4D075DB31 ,  4D075DC24 ,  4D075EA05 ,  4D075EA10 ,  4D075EA45 ,  4D075EB12 ,  4D075EB13 ,  4D075EB14 ,  4D075EB15 ,  4D075EB19 ,  4D075EB22 ,  4D075EB32 ,  4D075EB33 ,  4D075EB35 ,  4D075EB38 ,  4D075EB39 ,  4D075EB43 ,  4D075EC01 ,  4H020BA32

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 多機能ガラス及びその製法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-190294   出願人：セントラル硝子株式会社, 日産自動車株式会社
• カラーフィルタおよびその製造方法ならびに液晶表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-197529   出願人：京セラ株式会社