特許

J-GLOBAL ID：200903091669050136

保存安定性に優れる多孔質シリカフィルム形成用塗布液、該塗布液の製造方法、並びに、均一なメソ孔が規則的に配列された多孔質シリカフィルムの製造方法、該多孔質シリカフィルムおよびその用途

発明者： 高 村 一 夫 ,  大 池 俊 輔 ,  窪 田 武 司 ,  蔵 野 義 人 ,  村 上 雅 美
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-387930
公開番号（公開出願番号）：特開2003-183575
出願日： 2001年12月20日
公開日（公表日）： 2003年07月03日
要約：

【要約】【解決手段】本発明に係る保存安定性に優れる多孔質シリカフィルム形成用塗布液は、界面活性剤の存在下に、アルコキシシラン類を部分的に加水分解、脱水縮合して得られた反応溶液に、25°Cにおける誘電率が25以上である非プロトン性の有機化合物を添加してなることを特徴としている。【効果】本発明に係る多孔質シリカフィルム形成用塗布液および該塗布液の製造方法によれば、保存安定性に優れる該塗布液を提供することができる。さらに、上記塗布液を用いて製造される本発明の多孔質シリカフィルムは、規則的に配列した均一な細孔を有し、かつ、光機能材料や電子機能材料に用いることができる。

請求項（抜粋）：

界面活性剤の存在下に、アルコキシシラン類を部分的に加水分解、脱水縮合して得られた反応溶液に、25°Cにおける誘電率が25以上である非プロトン性の有機化合物を添加してなることを特徴とする保存安定性に優れる多孔質シリカフィルム形成用塗布液。

IPC (10件)：

C09D183/02 ,  C08K 5/17 ,  C08K 5/20 ,  C08L 83/02 ,  C08L 83/04 ,  C09D171/02 ,  C09D183/08 ,  C09D183/14 ,  H01L 21/316 ,  H01L 21/768

FI (10件)：

C09D183/02 ,  C08K 5/17 ,  C08K 5/20 ,  C08L 83/02 ,  C08L 83/04 ,  C09D171/02 ,  C09D183/08 ,  C09D183/14 ,  H01L 21/316 G ,  H01L 21/90 S

Fターム (33件)：

4J002CP021 ,  4J002CP031 ,  4J002EN136 ,  4J002EP007 ,  4J002EU027 ,  4J002EU046 ,  4J002FD316 ,  4J002HA04 ,  4J038DF022 ,  4J038DL021 ,  4J038DL071 ,  4J038DL161 ,  4J038JB11 ,  4J038JB12 ,  4J038JB26 ,  4J038JB27 ,  4J038JB29 ,  4J038KA09 ,  4J038MA09 ,  4J038NA01 ,  4J038NA21 ,  4J038NA26 ,  5F033GG04 ,  5F033RR23 ,  5F033RR29 ,  5F033SS22 ,  5F033XX00 ,  5F033XX24 ,  5F058BA20 ,  5F058BC02 ,  5F058BF46 ,  5F058BH01 ,  5F058BJ02