特許

J-GLOBAL ID：200903091669068256

電解研磨装置及びその電解液並びに電解研磨方法

発明者： 手塚 良磨 ,  神月 靖 ,  徳永 勝久 ,  森 政義 ,  中野 正 ,  朽木 純子 ,  寺尾 勝
出願人/特許権者： 住友金属鉱山株式会社
代理人 (1件)： 山本 正緒 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-197541
公開番号（公開出願番号）：特開平7-113200
出願日： 1994年07月29日
公開日（公表日）： 1995年05月02日
要約：

【要約】【目的】 従来よりも被処理物の表面を確実に平坦にして良好なメッキが可能となるように電解研磨でき、しかも電流効率が優れている電解研磨装置、及びその電解研磨に用いる電解液、並びに電解研磨方法を提供する。【構成】 間隔をおき交互に水平に配置された陰極板5並びに陽極板8と、水平面に沿い前記陰極板5と陽極板8の間に配置された絶縁材料からなる被処理物の送りローラ2とを槽1内に備えた電解研磨装置。硫酸10〜40g/l、硫酸ナトリウム10〜20g/l、界面活性剤0.05〜0.25g/lを含む水溶液からなる電解液6を、送りローラ2の内の上側ローラの一部が空気中に露出し且つ陰極板5及び陽極板8が浸るように槽1内に入れ、電解研磨を行う。

請求項（抜粋）：

水平方向に間隔をおいて交互に水平に配置された陰極板並びに陽極板と、被処理物が移動する水平面に沿い被処理物と接して回転するように上下に対をなし、前記陰極板と陽極板の間に配置された絶縁材料からなる被処理物の送りローラとを、槽内に備えたことを特徴とする電解研磨装置。

IPC (4件)：

C25F 7/00 ,  C25F 3/22 ,  C25F 3/24 ,  H01L 23/50

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭55-115997
  
• 特開昭56-009400
  
• 特開昭56-133495
  
• 特開昭63-033600