特許

J-GLOBAL ID：200903091677185610

投影露光方法及び投影露光装置

発明者： 川井 秀実
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-353754
公開番号（公開出願番号）：特開平5-166694
出願日： 1991年12月18日
公開日（公表日）： 1993年07月02日
要約：

【要約】【目的】 同一ウェハ上に結像パラメータの最適な値が異なる複数のデバイスチップのパターンを露光するような場合等でも最適な結像特性を得る。【構成】 レチクルの種類を判別する工程(ステップ107)と、そのレチクルの種類に応じて照明系の視野絞り、照明系の開口絞り及び投影光学系の開口絞りの状態を設定する工程(ステップ108,109)と、ステージを移動して感光基板の所定領域にそのレチクル上のパターンの像を投影する工程(ステップ110,111)とを有する。

請求項（抜粋）：

マスク上のパターンを露光光で照明する照明系と、前記マスク上のパターンの像をステージ上の感光基板に投影する投影光学系とを有する投影露光装置の露光方法において、前記マスクの種類を判別する工程と、前記マスクの種類に応じて前記照明系の視野絞り、前記照明系の開口絞り及び前記投影光学系の開口絞りの状態を設定する工程と、前記ステージを移動して前記感光基板の所定領域に前記マスク上のパターンの像を投影する工程とを有する事を特徴とする投影露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (3件)：

H01L 21/30 301 G ,  H01L 21/30 311 S ,  H01L 21/30 311 L

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭62-171123
  
• 特開昭61-091662
  
• 特開昭62-171123
  
• 特開昭61-091662