特許
J-GLOBAL ID：200903091679446810
投影露光装置及び方法、並びに素子製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-337531
公開番号（公開出願番号）：特開2000-150374
出願日： 1990年12月27日
公開日（公表日）： 2000年05月30日
要約：
【要約】【目的】 回路パターン等の投影露光時の解像力と焦点深度とを向上させる。【構成】 光源1からの照明光束を、回折格子状パターン5によってフライアイレンズ11の入射面11aに入射させ、フライアイレンズ11の射出面11b近傍で光軸AXから偏心した位置に2次光源像を形成する。そして、2次光源像からの照明光はコンデンサーレンズ13、15を介してレチクル16に照射し、レチクルパターン17を投影光学系18によりウェハ(感光基板)20に結像投影する。フライアイレンズ11の射出面11bは投影光学系18の瞳面19と共役である。
請求項（抜粋）：
光源からの照明光をマスクに照射する照明光学系と、前記照明光を基板上に投射する投影光学系とを備え、前記照明光の照射によって前記マスクのパターンを前記基板上に転写する投影露光装置において、前記照明光学系内に配置され、前記光源からの照明光を入射して回折光を発生する回折光学素子を備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G02B 13/24
, G02F 1/13 101
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 515 D
, G02B 13/24
, G02F 1/13 101
, G03F 7/20 521
