特許
J-GLOBAL ID：200903091681265270
高性能レーザー装置に用いられる超低損失ミラーの再生方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
工業技術院電子技術総合研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-344945
公開番号（公開出願番号）：特開平7-174912
出願日： 1993年12月20日
公開日（公表日）： 1995年07月14日
要約：
【要約】【構成】処理チェンバー1内に被処理ミラー7を配置し、該ミラーの表面にはRFプラズマ発生管3中のラジカルを照射する高性能レーザー装置に用いられる超低損失ミラーの再生方法。【効果】プラズマ内の高エネルギー粒子による損傷が少ない状態で、プラズマ中で発生するラジカルを劣化した高性能レーザー用ミラー表面に照射することができるので、ミラー表層に堆積或は注入された原子・分子を除去して、従来不可能であった100ppm程度の超低損失領域においてもミラーの劣化を回復させることが可能となる。
請求項（抜粋）：
処理チェンバー内に被処理ミラーを配置し、該ミラーの表面にはRFプラズマ中で発生するラジカルを照射することを特徴とする高性能レーザー装置に用いられる超低損失ミラーの再生方法。
IPC (5件)：
G02B 5/08
, C23C 14/28
, G01J 1/04
, H01S 3/30
, H05H 1/46
