特許

J-GLOBAL ID：200903091685320712

不飽和第4級アンモニウム塩の製造方法

発明者： 西村 隆 ,  中濱 哲朗
出願人/特許権者： 三菱レイヨン株式会社 ,  日東理研工業株式会社 ,  ナガセ化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-034097
公開番号（公開出願番号）：特開2000-229917
出願日： 1999年02月12日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：

【要約】【課題】 ハロゲン化メチルスチレンとトリアルキルアミンとを反応させ不飽和第4級アンモニウム塩の結晶を高収率で製造する方法を提供する。【解決手段】 ハロゲン化メチルスチレンとトリアルキルアミンをエステル系溶媒、ケトン系溶媒、芳香族系溶媒、エーテル系溶媒、セロソルブ系溶媒、塩素系溶媒、ニトリル系溶媒、アミド系溶媒又は炭化水素系溶媒等の有機溶媒中で反応させることにより高純度の第4級アンモニウム塩の結晶を高収率で得る。

請求項（抜粋）：

下記一般式 [I]【化1】(式中、XはCl、BrまたはIを示す)で表されるハロゲン化メチルスチレンと下記一般式[II]【化2】(式中、R1 、R2 、R3 はメチル基またはエチル基を示す)で表されるトリアルキルアミンとを有機溶媒の存在下に反応させ、下記一般式 [III]【化3】(式中、XはCl、BrまたはIを示し、R1 、R2 、R3 はメチル基またはエチル基を示す)で表される不飽和第4級アンモニウム塩結晶の製造方法。

IPC (2件)：

C07C209/12 ,  C07C211/63

FI (2件)：

C07C209/12 ,  C07C211/63

Fターム (9件)：

4H006AA02 ,  4H006AC52 ,  4H006BB11 ,  4H006BB12 ,  4H006BB15 ,  4H006BB16 ,  4H006BB17 ,  4H006BB20 ,  4H006BB21