特許

J-GLOBAL ID：200903091689409734

電子線描画データ作成装置、及び電子線描画システム

発明者： 島田 豊 ,  浅沼 利文 ,  小川 俊夫 ,  大杉 浩三 ,  築添 明 ,  鈴木 俊夫 ,  加藤 浩 ,  松井 隆
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所 ,  日立コンピユータエンジニアリング株式会社
代理人 (1件)： 玉村 静世
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-206459
公開番号（公開出願番号）：特開平5-029202
出願日： 1991年07月23日
公開日（公表日）： 1993年02月05日
要約：

【要約】【目的】 本発明の目的は、電子線描画装置へ転送される電子線描画データ量を低減することにある。【構成】 半導体集積回路の設計パターンを、電子線描画における最小描画領域に分解することによって基本パターンを得る基本パターン形成部3と、電子線描画領域における上記基本パターンの配置情報を得る配置情報形成部4と、上記基本パターン及びそれの配置情報を所定のフォーマットで出力するための出力部5とを設けることにより、基本パターンとそれの配置情報とを所定のフォーマットで電子線描画装置7に転送するようにして電子線描画データ量の低減を図る。

請求項（抜粋）：

回路の設計パターンデータから電子線描画のための描画データを作成する電子線描画データ作成装置において、上記設計パターンを、電子線描画における最小描画領域に分解することによって基本パターンを得る基本パターン形成手段と、電子線描画領域における上記基本パターンの配置情報を得る配置情報形成手段と、上記基本パターン及びそれの配置情報を所定のフォーマットで出力するための出力手段とを含むことを特徴とする電子線描画データ作成装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G06F 15/60 370 ,  H01L 21/82

FI (2件)：

H01L 21/30 341 J ,  H01L 21/82 C