特許

J-GLOBAL ID：200903091689605312

膜形成用組成物、膜の形成方法および低密度膜

発明者： 秋池 利之 ,  今野 圭一 ,  柴 唯啓 ,  後藤 幸平
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-135619
公開番号（公開出願番号）：特開2000-044875
出願日： 1999年05月17日
公開日（公表日）： 2000年02月15日
要約：

【要約】【目的】 誘電率特性、密着性、塗膜の均一性等に優れた膜形成用組成物ならびに該組成物を硬化して得られる膜の製造方法を得る。【構成】 (A)下記一般式(1)で表される化合物の加水分解物およびその部分縮合物またはいずれか一方R1nSi(OR2)4-n (1)(R1 およびR2 は、同一でも異なっていても良く、それぞれ1価の有機基を示し、nは0〜2の整数を表す。)(B)金属キレート化合物(C)ポリアルキレンオキサイド構造を有する化合物を含有することを特徴とする膜形成用組成物。

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(1)で表される化合物の加水分解物およびその部分縮合物またはいずれか一方R1nSi(OR2)4-n (1)(R1 およびR2 は、同一でも異なっていても良く、それぞれ1価の有機基を示し、nは0〜2の整数を表す。)(B)金属キレート化合物(C)ポリアルキレンオキサイド構造を有する化合物を含有することを特徴とする膜形成用組成物。

IPC (10件)：

C09D183/04 ,  B05D 7/24 302 ,  C08J 9/26 102 ,  C08L 83/04 ,  C09D 5/25 ,  C09D105/00 ,  C09D125/02 ,  C09D133/06 ,  C09D139/00 ,  C09D171/02

FI (10件)：

C09D183/04 ,  B05D 7/24 302 Y ,  C08J 9/26 102 ,  C08L 83/04 ,  C09D 5/25 ,  C09D105/00 ,  C09D125/02 ,  C09D133/06 ,  C09D139/00 ,  C09D171/02