特許

J-GLOBAL ID：200903091699344339

写真処理廃液の処理方法

発明者： 鈴木 誠治 ,  堀 清高 ,  塩田 祐介 ,  三井 紀一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社 ,  株式会社日本触媒
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-165773
公開番号（公開出願番号）：特開平8-010797
出願日： 1994年06月27日
公開日（公表日）： 1996年01月16日
要約：

【要約】【目的】 低コストかつ2次公害となる物質の生成なく写真処理廃液を充分低いレベルまでCOD、窒素、リンおよび重金属等を除去可能で、メインテナンスが容易な写真処理廃液の浄化方法を提供する。【構成】 写真処理廃液を、酸素を含有するガスの供給下、140°C以上370°C未満の温度および該廃液が液相を保持する圧力下で無触媒湿式酸化処理を行い、次いで生成した固形物および懸濁物を固液分離した後、酸素を含有するガスの供給下、140°C以上370°C未満の温度および該廃液が液相を保持する圧力下で触媒湿式酸化処理を行い、さらに得られた処理液を好気性生物処理と嫌気性生物処理を組み合わせて生物処理する。

請求項（抜粋）：

写真処理廃液を浄化する処理方法において、以下の工程を順次行うことを特徴とする写真処理廃液の処理方法。?@写真処理廃液を、酸素を含有するガスの供給下、140°C以上370°C未満の温度および該廃液が液相を保持する圧力下で、無触媒湿式酸化処理する第1工程。?A第1工程において生成した固形物および/または懸濁物を、第1工程の処理液から分離除去する第2工程。?B第2工程の処理液を、酸素を含有するガスの供給下、140°C以上370°C未満の温度および該廃液が液相を保持する圧力下で、触媒湿式酸化処理する第3工程。?C第3工程の処理液について、好気性生物処理と嫌気性生物処理を組み合わせた生物処理を行う第4工程。

IPC (10件)：

C02F 9/00 503 ,  C02F 9/00 ZAB ,  C02F 9/00 501 ,  C02F 9/00 ,  C02F 9/00 502 ,  C02F 9/00 504 ,  C02F 1/74 101 ,  C02F 3/30 ZAB ,  G03C 5/00 ,  G03D 3/00