表示パネルの製造方法およびそれに用いる露光システム

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：秋田収喜
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-218541
公開番号（公開出願番号）：特開2008-040436
出願日： 2006年08月10日
公開日（公表日）： 2008年02月21日
要約：

【課題】 1枚の液晶表示パネルの表示領域における画質むらを容易に低減する。【解決手段】基板上に薄膜を形成する工程と、前記薄膜をエッチングする工程とを複数回繰り返して、前記基板上に複数本の走査信号線と、絶縁層を介して前記複数本の走査信号線と立体的に交差する複数本の映像信号線と、2本の隣接する走査信号線および2本の隣接する映像信号線で囲まれた画素領域に対して配置されるTFT素子および画素電極とを形成する表示パネルの製造方法であって、あらかじめ用意された設計パターンに基づいて数値化した露光寸法を用いてレジスト膜を露光する工程と、露光したレジスト膜を現像して形成されたエッチングレジストを利用して前記薄膜をエッチングし、薄膜パターンを形成する工程と、形成された薄膜パターンの完成寸法に基づいて、前記設計パターンを補正する工程とを有する表示パネルの製造方法。【選択図】図7

請求項（抜粋）：

基板上に薄膜を形成する工程と、前記薄膜をエッチングする工程とを複数回繰り返して、前記基板上に複数本の走査信号線と、絶縁層を介して前記複数本の走査信号線と立体的に交差する複数本の映像信号線と、2本の隣接する走査信号線および2本の隣接する映像信号線で囲まれた画素領域に対して配置されるTFT素子および画素電極とを形成する表示パネルの製造方法であって、前記基板に形成された薄膜上に感光性のレジスト膜を形成する第1の工程と、あらかじめ用意された設計パターンに基づいて数値化した露光寸法を用いて前記レジスト膜を露光する第2の工程と、前記第2の工程で露光した前記レジスト膜を現像してエッチングレジストを形成する第3の工程と、前記第3の工程で形成したエッチングレジストを利用して前記薄膜をエッチングし、前記設計パターンを反映した薄膜パターンを形成する第4の工程と、前記第4の工程で形成された薄膜パターンの完成寸法を計測する第5の工程と、前記第5の工程で計測した薄膜パターンの完成寸法に基づいて、前記設計パターンを補正する第6の工程とを有し、前記第6の工程で前記設計パターンを補正した後、前記第2の工程は、前記補正した設計パターンに基づいて数値化した露光寸法を用いて前記レジスト膜を露光することを特徴とする表示パネルの製造方法。

IPC (4件)：

G02F 1/136 , G09F 9/00 , G09F 9/30 , G03F 1/08

FI (4件)：

G02F1/1368 , G09F9/00 338 , G09F9/30 338 , G03F1/08 A

Fターム (29件)：

2H092JA26 , 2H092JA30 , 2H092JA38 , 2H092JA42 , 2H092JB23 , 2H092JB25 , 2H092JB32 , 2H092JB34 , 2H092MA14 , 2H092MA15 , 2H092MA16 , 2H092MA20 , 2H092NA01 , 2H092NA28 , 2H092QA06 , 2H092QA07 , 2H095BA12 , 2H095BB02 , 2H095BB36 , 5C094AA03 , 5C094AA31 , 5C094AA42 , 5C094BA03 , 5C094BA43 , 5C094GB10 , 5G435AA17 , 5G435BB12 , 5G435KK05 , 5G435KK10

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