特許

J-GLOBAL ID：200903091705296600

膜形成用組成物

発明者： 黒澤 孝彦 ,  篠田 智隆 ,  山田 欣司
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 渡辺 喜平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-331449
公開番号（公開出願番号）：特開平11-157838
出願日： 1997年12月02日
公開日（公表日）： 1999年06月15日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 塗布膜の厚さの均一性、誘電率特性、酸素プラズマアッシング耐性及び下地に対する密着性に優れた膜形成用組成物(層間絶縁膜用材料)を提供する。【解決手段】 膜形成用組成物であって、下記一般式(1)で表されるアルキルアルコキシランの加水分解物および/またはその部分縮合物と、下記一般式(2)で表されるキレート化合物と、有機溶媒とを含む。R1nSi(OR2)4-n(1)(R1 およびR2 は、同一でも異なっていても良く、それぞれ炭素数1〜5のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を示し、nは1〜2の整数を表す。)R3tM(OR4)4-t(2)(R3 はキレート剤、Mはチタンまたはジルコニウム、R4 は炭素数2〜5のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を示し、tは1〜4の整数を表す。)

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表されるアルキルアルコキシランの加水分解物および/またはその部分縮合物と、下記一般式(2)で表されるチタンのキレート化合物およびジルコニウムのキレート化合物あるいはいずれか一方のキレート化合物と、乳酸エチル、メトキシメチルプロピオネートおよびエトキシエチルプロピオネートからなる群から選択された少なくとも一つの有機溶媒とを含むことを特徴とする膜形成用組成物。R1nSi(OR2)4-n (1)(R1 およびR2 は、同一でも異なっていても良く、それぞれ炭素数1〜5のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を示し、nは1〜2の整数を表す。)R3tM(OR4)4-t (2)(R3 はキレート剤、Mはチタンまたはジルコニウム、R4 は炭素数2〜5のアルキル基または炭素数6〜20のアリール基を示し、tは1〜4の整数を表す。)

IPC (5件)：

C01G 23/053 ,  C01B 33/149 ,  C01G 25/02 ,  C09D183/02 ,  H01L 21/312

FI (5件)：

C01G 23/053 ,  C01B 33/149 ,  C01G 25/02 ,  C09D183/02 ,  H01L 21/312 C