特許
J-GLOBAL ID:200903091710952761

偽造防止パターン及びこれを用いた有価証券

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-014197
公開番号(公開出願番号):特開2002-211103
出願日: 2001年01月23日
公開日(公表日): 2002年07月31日
要約:
【要約】【課題】通常の状態では潜像パターンが容易に視認できないような潜像パターンであり、これによって、偽造、改竄等の不正行為防止の効果を更に高めることができる偽造防止パターンを提供する。【解決手段】潜像パターンを形成する領域内に存在する閉図形1に形成される凹凸の角度方向と、潜像パターンを形成しない領域内に存在する閉図形2に形成される凹凸の角度方向とが異なることを特徴とする偽造防止パターン。
請求項(抜粋):
潜像パターンを形成する領域内に存在する閉図形に形成される凹凸の角度方向と、潜像パターンを形成しない領域内に存在する閉図形に形成される凹凸の角度方向とが異なることを特徴とする偽造防止パターン。
IPC (4件):
B41M 3/14 ,  B41M 1/24 ,  B42D 15/10 531 ,  B42D 15/10
FI (4件):
B41M 3/14 ,  B41M 1/24 ,  B42D 15/10 531 B ,  B42D 15/10 531 A
Fターム (15件):
2C005HA01 ,  2C005HB10 ,  2C005HB12 ,  2C005JB21 ,  2C005JB40 ,  2H113AA01 ,  2H113AA06 ,  2H113BA03 ,  2H113BA10 ,  2H113BA27 ,  2H113BB02 ,  2H113BB22 ,  2H113CA37 ,  2H113CA39 ,  2H113EA01
引用特許:
審査官引用 (7件)
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