半導体製造用回転塗布装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-044026
公開番号（公開出願番号）：特開平10-242030
出願日： 1997年02月27日
公開日（公表日）： 1998年09月11日
要約：

【要約】【課題】装置の稼働低下なしにノズル交換及び洗浄を行い、塗布むらやごみによる異常のない良好な塗布膜を得る。【解決手段】感光剤ノズルa13,b14を真空による吸着でノズル駆動アーム11やノズル待機ブロック17に固定出来る様にする。感光剤ノズルa13,b14の交換や感光剤塗布の状態に応じ、ノズル駆動アーム11に感光剤ノズルa13,b14を真空保持したり、ノズル待機ブロック17に真空固定を行う様にする。ノズル洗浄を行う時は、ノズル待機ブロック17に、洗浄する感光剤ノズルを真空固定し、ノズル駆動アーム11に固定された溶剤ノズルa15の下までノズル待機ブロック17を移動させる。溶剤ノズルa15から、洗浄する感光剤ノズルa13へ溶剤を吐出することにより洗浄を行う。

請求項（抜粋）：

半導体製造用回転塗布装置において、各々単独に大気開放または真空状態に切り替え可能な真空供給配管が配置されたノズル駆動アームと、ノズル待機ブロックと、前記真空供給配管に接続しノズルが固定され着脱可能な真空供給板とを有し、前記ノズルアームの真空供給配管を真空状態にし前記ノズル待機ブロックの真空供給配管を開放状態にして前記真空吸着板を前記ノズルアームに固定して前記ノズルから感光剤を塗布し、一方、ねじ等により移動可能な前記ノズル待機ブロックの真空供給配管を真空状態にし前記ノズルアームの真空供給配管を開放状態にして前記真空吸着板を移動させ取り外して前記ノズルを感光剤を溶剤を供給することにより前記ノズルを交換,洗浄することを特徴とする半導体装置用回転塗布装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , B05C 11/08 , G03F 7/16 502

FI (3件)：

H01L 21/30 564 C , B05C 11/08 , G03F 7/16 502

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平4-118067
特開平4-104254
真空スピンドル用ノズル交換装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-086015 出願人：ユニバーサルインストゥルメンツコーポレーション

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