荷電粒子ビーム光学素子、荷電粒子ビーム露光装置及びその調整方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-337331
公開番号（公開出願番号）：特開平11-160495
出願日： 1997年12月08日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：

【要約】【課題】フィールドサイズを拡大しても収差が極度に大きくなることを防止でき、高精度・高速度なパターン形成を可能にする。【解決手段】 2つの電極1,2が離間対向配置され、これらの電極1,2間に電子ビームを通過させて、該ビームを収束するための電子レンズとして機能する光学素子において、(r,z,θ)で定義される円筒座標系に関して、電場ポテンシャルの任意定数を除く有効部分がφ=(k/2)r2 -αlnr-kz2で与えられる電場を空間的に一部分に形成するように、各電極1,2の対向面をそれぞれ、ビームの通過する方向に沿って円筒対称に形成し、且つビームの通過する方向と直交する方向で双曲線を変形した曲線となるように形成した。

請求項（抜粋）：

少なくとも空間の一部分に、部分的に回転対称な電磁場を形成し、この電磁場を通過する荷電粒子ビームの断面形状が、前記ビームの軌跡の主法線方向の大きさよりも、前記軌跡の陪法線方向の大きさを大きくすることを特徴とする荷電粒子ビーム光学素子。

IPC (5件)：

G21K 1/087 , G21K 1/093 , H01J 37/14 , H01J 37/305 , H01L 21/027

FI (5件)：

G21K 1/087 S , G21K 1/093 S , H01J 37/14 , H01J 37/305 B , H01L 21/30 541 B

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