特許
J-GLOBAL ID:200903091735189124

基材の親水化処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小山 有
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-333348
公開番号(公開出願番号):特開2003-160360
出願日: 2000年10月19日
公開日(公表日): 2003年06月03日
要約:
【要約】【課題】 高い親水性および保水性を長期間維持できる基材の親水化処理方法を提供する。【解決手段】 酸素雰囲気ガス中にアルゴン又は窒素が酸素に対して1〜200%混合された100Pa以下の減圧雰囲気下で、基材上にSiO2膜を形成し、この成膜直後に、SiO2膜を水処理する。これにより高温多湿環境下における視認性向上のための曇り防止効果が期待でき、例えば、浴室内の防曇鏡や窓等へ好適に使用することができる。
請求項(抜粋):
酸素雰囲気ガス中にアルゴン又は窒素が酸素に対して1〜200%混合された100Pa以下の減圧雰囲気中で、基材上に直接SiO2膜を形成し、この成膜直後に前記SiO2膜を水処理してSiO2膜表面にシラノール基(SiOH)を選択的に形成せしめることを特徴とする基材の親水化処理方法。
Fターム (6件):
4G059AA01 ,  4G059AB09 ,  4G059AC21 ,  4G059EA05 ,  4G059EB02 ,  4G059EB04

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