特許

J-GLOBAL ID：200903091738580215

金属イオン含有量の低いポリビニルフェノール類の製造法

発明者： 中野 由子 ,  植田 裕治 ,  竹山 尚幹 ,  楠本 武宏 ,  植木 裕美
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-344341
公開番号（公開出願番号）：特開平6-192318
出願日： 1992年12月24日
公開日（公表日）： 1994年07月12日
要約：

【要約】【目的】 感光性組成物に用いられるポリビニルフェノール類の金属イオン含有量を低減化する方法を提供する。【構成】 有機溶剤中にポリビニルフェノール類を約1〜約50重量%の濃度に溶解させ、酸性の化合物を含む水溶液を該ポリビニルフェノール類溶液と接触させた後、さらにイオン交換水と一回又は繰り返して接触させることにより、前記溶液の金属イオン含有量を低下させることを特徴とする、金属イオン含有量の低いポリビニルフェノール類の製造法。

請求項（抜粋）：

有機溶剤中にポリビニルフェノール類を約1〜約50重量%の濃度に溶解させ、酸性の化合物を含む水溶液と該ポリビニルフェノール類溶液を接触させた後、さらにイオン交換水と一回又は繰り返して接触させることにより、前記溶液の金属イオン含有量を低下させることを特徴とする、金属イオン含有量の低いポリビニルフェノール類の製造法。

IPC (2件)：

C08F 6/06 MFN ,  C08F 12/22 MJY