特許

J-GLOBAL ID：200903091750129820

少なくとも1の水素化糖の内部脱水生成物を含む組成物の製造方法

発明者： パトリック・フュエルト
出願人/特許権者： ロケット・フルーレ
代理人 (5件)： 志賀 正武 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  村山 靖彦 ,  実広 信哉
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-545601
公開番号（公開出願番号）：特表2005-509667
出願日： 2002年11月18日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：

本発明の対象は、水素化糖の内部脱水生成物の組成物の製造方法であり:a)前記生成物が豊富な蒸留物を得るための、前記内部脱水素生成物を含む媒体を蒸留する工程、b)任意に、得られた蒸留物を精製する、少なくとも1の後処理工程、c)工程a)で得られた、及びその後の任意で工程b)に供した蒸留物を、前記蒸留物中に主に含まれている前記内部脱水生成物の安定性の改善を可能とする、ガス状の形態ではない安定性改善剤と接触させる、後処理工程、d)任意に、得られた水素化糖の内部脱水生成物の組成物を成形する、後処理工程:を含む製造方法である。本方法によって、特に、純度及び/又は安定な又は非安定な種の含有物によって特徴付けられる、安定なイソソルビド組成物を得ることができる。

請求項（抜粋）：

水素化糖の内部脱水生成物の組成物の製造方法であり: a)前記生成物が豊富な蒸留物を得るための、前記内部脱水素生成物を含む媒体を蒸留する工程、 b)任意に、得られた蒸留物を精製する、少なくとも1の後処理工程、 c)工程a)で得られた、及びその後の任意で工程b)に供した蒸留物を、前記蒸留物中に主に含まれている前記内部脱水生成物の安定性の改善を可能とする、ガス状の形態ではない安定性改善剤と接触させる、後処理工程、 d)任意に、得られた水素化糖の内部脱水生成物の組成物を成形する、後処理工程: を含む製造方法。

IPC (1件)：

C07D493/04

FI (1件)：

C07D493/04 101D

Fターム (12件)：

4C071AA01 ,  4C071BB01 ,  4C071CC12 ,  4C071DD04 ,  4C071EE05 ,  4C071FF15 ,  4C071HH05 ,  4C071KK16 ,  4C071LL01 ,  4C071LL03 ,  4C071LL07 ,  4C071LL10

引用特許：

出願人引用 (22件)

• 米国特許4,371,703
  
• 米国特許4,383,051
  
• 特許 WO99/45 054
  
• 米国特許4,418,174
  
• 米国特許5,766,679
  
• 加国特許1 178 288
  
• 米国特許4,861,513
  
• 英国特許613,444
  
• 特許WO 00/14081
  
• 米国特許3,160,641
  
• 米国特許4,408,061
  
• 米国特許4,082,881
  
• 欧州特許323,994
  
• 米国特許4,564,692
  
• 欧州特許380,402
  
• 欧州特許315 334
  
• 欧州特許1 106 616
  
• 特許WO 99/450060
  
• 仏国特許2 757 517
  
• 米国特許3,233,752
  
• 米国特許6,025,061
  
• 米国特許4,529,666
  

審査官引用 (3件)

• 特公昭45-041393
  
• 特開平4-108781
  
• 特開昭60-197666