特許

J-GLOBAL ID：200903091755413039

遠紫外線露光用感光性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法

発明者： 中野 嘉一郎 ,  前田 勝美 ,  岩佐 繁之 ,  長谷川 悦雄
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-301785
公開番号（公開出願番号）：特開平10-133371
出願日： 1993年07月14日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：

【要約】【課題】 波長が220nm以下の遠紫外光に対し高透明性を有し、高感度で形状の良い微細パターンを形成し、遠紫外線、例えばArFエキシマレーザ(193.3nm)露光用化学増幅型レジストとして有用な感光樹脂組成物を提供する。【解決手段】 下記一般式(1)に示すアルキルスルホニウム塩(R1 およびR2 は炭素数1ないし8の直鎖状、分枝状、又は環状アルキル基、R3 は炭素数1ないし8の直鎖状、分枝状、または環状のアルキル基、炭素数5ないし7の2-オキソ環状アルキル基、あるいは炭素数3ないし8の2-オキソ直鎖状または分枝状アルキル基、Y- は対イオン)を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。および当該感光性樹脂組成物の薄膜を基板上に形成し、波長が220nm以下の光を露光光とすることで微細パターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。

請求項（抜粋）：

下記の一般式(I)で表されるアルキルスルホニウム塩を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。【化1】(ただし、R1 およびR2 は直鎖状、または分枝状のアルキル基、R3 は2-オキソ環状アルキル基、あるいは2-オキソ直鎖状または分枝状アルキル基、Y-は対イオンを表す。)

IPC (4件)：

G03F 7/029 ,  C08K 5/372 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/029 ,  C08K 5/372 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R

引用特許：

審査官引用 (1件)

• スルホニウム錯体またはオキソスルホニウム錯体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-056831   出願人：東洋インキ製造株式会社