特許

J-GLOBAL ID：200903091757351570

磁気ディスク用結晶化ガラスおよびその製造方法

発明者： 後藤 直雪 ,  山口 勝彦
出願人/特許権者： 株式会社オハラ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-139989
公開番号（公開出願番号）：特開平6-329440
出願日： 1993年05月19日
公開日（公表日）： 1994年11月29日
要約：

【要約】【目的】 本発明は、特定組成域のガラスを熱処理することにより、結晶粒子のサイズを制御することができ、研磨後の表面粗度が15〜50Åの範囲である磁気ディスク用結晶化ガラスおよびその製造方法を提供することにある。【構成】 重量百分率で、SiO2 65〜83%、Li2O 8〜13%、K2O 0〜7%、MgO 0.5〜5.5%、ZnO 0〜5%、PbO 0〜5%、MgO+ZnO+PbO 0.5〜5.5%、P2O5 1〜4%、Al2O30〜7%、As2O3+Sb2O3 0〜2%からなるガラスを熱処理することで得られる。

請求項（抜粋）：

重量百分率で、SiO2 65〜83%、Li2O 8〜13%、K2O 0〜7%、MgO 0.5〜5.5%、ZnO 0〜5%、PbO0〜5%、MgO+ZnO+PbO 0.5〜5.5%、P2O5 1〜4%、Al2O3 0〜7%、As2O3+Sb2O3 0〜2%からなるガラスを熱処理することにより得られ、主結晶相として二珪酸リチウム(Li2O・2SiO2)およびα-クオーツ(SiO2)を有することを特徴とする磁気ディスク用結晶化ガラス。

IPC (6件)：

C03C 10/14 ,  C03C 3/097 ,  C03C 3/102 ,  C03C 3/105 ,  G11B 5/82 ,  G11B 5/84