面状光学素子の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-273452
公開番号（公開出願番号）：特開2000-098103
出願日： 1998年09月28日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】極めて容易な方法で各素子が正確に位置合わせされた面状光学素子を作成できる、自由度の高い面状光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】露光により濡れ性の変化する光触媒含有層を表裏両面に有する支持体の表裏両面に、同時または前記支持体を固定したまま片面ずつ逐次にパターン露光を行うことにより濡れ性の違いによるパターンを形成する工程と、前記光触媒含有層を有する支持体の表裏両面に形成された濡れ性の違いによるパターンに、それぞれの濡れ性パターンに対応した光学素子を形成する工程と、を含むことを特徴とする、支持体両面に形成された光学素子間の位置精度が高い、面状光学素子の製造方法。

請求項（抜粋）：

露光により濡れ性の変化する光触媒含有層を表裏両面に有する支持体の表裏両面に、同時または前記支持体を固定したまま片面ずつ逐次に、パターン露光を行うことにより濡れ性の違いによるパターンを形成する工程と、前記光触媒含有層を有する支持体の表裏両面に形成された濡れ性の違いによるパターンに、それぞれの濡れ性パターンに対応した光学素子を形成する工程と、を含むことを特徴とする、支持体両面に形成された光学素子間の位置精度が高い、面状光学素子の製造方法。

IPC (5件)：

G02B 3/00 , G02B 5/20 101 , G02F 1/1335 , G09F 9/30 349 , G09F 9/30

FI (6件)：

G02B 3/00 A , G02B 5/20 101 , G02F 1/1335 , G09F 9/30 349 B , G09F 9/30 349 C , G09F 9/30 349 Z

Fターム (22件)：

2H048BA60 , 2H048BB02 , 2H048BB10 , 2H048BB14 , 2H048BB42 , 2H048BB46 , 2H091FA29Z , 2H091FA34Y , 2H091FB04 , 2H091FC01 , 2H091FC10 , 2H091FC23 , 2H091FD12 , 2H091GA01 , 2H091LA12 , 5C094AA43 , 5C094BA43 , 5C094ED02 , 5C094ED15 , 5C094FB01 , 5C094GB01 , 5C094HA10

引用特許：

出願人引用 (4件)

潜像版下、潜像版下の製造方法、及び潜像版下を有する印刷装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-059392 出願人：富士通株式会社
特開平4-301801
固体撮像装置とその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-151352 出願人：三菱電機株式会社

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