特許

J-GLOBAL ID：200903091760870022

面状光学素子の製造方法

発明者： 山 本 学 ,  岡 部 将 人 ,  小 林 弘 典
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-273452
公開番号（公開出願番号）：特開2000-098103
出願日： 1998年09月28日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】 極めて容易な方法で各素子が正確に位置合わせされた面状光学素子を作成できる、自由度の高い面状光学素子の製造方法を提供する。【解決手段】 露光により濡れ性の変化する光触媒含有層を表裏両面に有する支持体の表裏両面に、同時または前記支持体を固定したまま片面ずつ逐次にパターン露光を行うことにより濡れ性の違いによるパターンを形成する工程と、前記光触媒含有層を有する支持体の表裏両面に形成された濡れ性の違いによるパターンに、それぞれの濡れ性パターンに対応した光学素子を形成する工程と、を含むことを特徴とする、支持体両面に形成された光学素子間の位置精度が高い、面状光学素子の製造方法。

請求項（抜粋）：

露光により濡れ性の変化する光触媒含有層を表裏両面に有する支持体の表裏両面に、同時または前記支持体を固定したまま片面ずつ逐次に、パターン露光を行うことにより濡れ性の違いによるパターンを形成する工程と、前記光触媒含有層を有する支持体の表裏両面に形成された濡れ性の違いによるパターンに、それぞれの濡れ性パターンに対応した光学素子を形成する工程と、を含むことを特徴とする、支持体両面に形成された光学素子間の位置精度が高い、面状光学素子の製造方法。

IPC (5件)：

G02B 3/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 ,  G09F 9/30 349 ,  G09F 9/30

FI (6件)：

G02B 3/00 A ,  G02B 5/20 101 ,  G02F 1/1335 ,  G09F 9/30 349 B ,  G09F 9/30 349 C ,  G09F 9/30 349 Z

Fターム (22件)：

2H048BA60 ,  2H048BB02 ,  2H048BB10 ,  2H048BB14 ,  2H048BB42 ,  2H048BB46 ,  2H091FA29Z ,  2H091FA34Y ,  2H091FB04 ,  2H091FC01 ,  2H091FC10 ,  2H091FC23 ,  2H091FD12 ,  2H091GA01 ,  2H091LA12 ,  5C094AA43 ,  5C094BA43 ,  5C094ED02 ,  5C094ED15 ,  5C094FB01 ,  5C094GB01 ,  5C094HA10