特許

J-GLOBAL ID：200903091766199322

パターン照合装置

発明者： 佐々木 宏
出願人/特許権者： 株式会社山武
代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-190155
公開番号（公開出願番号）：特開2001-022924
出願日： 1999年07月05日
公開日（公表日）： 2001年01月26日
要約：

【要約】【課題】 周囲の環境や対象物の種類などが変わっても適切な背景分離処理を行えるようにし、照合精度の悪化を防止する。【解決手段】 照合の過程で照合の信頼度Cを求め(ステップ112)、この信頼度Cが所定値CLよりも低い場合(ステップ113のNO)、登録画像に対する輝度閾値Vrおよび照合画像に対する輝度閾値Vcを変更して照合を繰り返し、信頼度Cが所定値よりも高くなった場合に「一致」と判定する(ステップ113のYES)。なお、輝度閾値VrおよびVcを変更しながら所定回数n照合を繰り返し、その照合過程での各照合の信頼度Cを求め、この各照合の信頼度Cの中から最大値を選び出し、この選び出した信頼度が所定値CLよりも高い場合に「一致」と判定するようにしてもよい。

請求項（抜粋）：

登録画像中から所定の輝度閾値Vrに基づいて背景と見なさる部分を分離して残りの部分を登録パターンとして抽出し、照合画像中から所定の輝度閾値Vcに基づいて背景と見なせる部分を分離して残りの部分を照合パターンとして抽出し、この抽出した登録パターンと照合パターンとの相関を求めることにより登録パターンと照合パターンとの照合を行うパターン照合装置において、前記照合の過程でその照合の信頼度を求め、この信頼度が所定値よりも高い場合に「一致」と判定する一方、低い場合には前記輝度閾値VrおよびVcを変更して照合を繰り返す判定手段を備えたことを特徴とするパターン照合装置。

Fターム (8件)：

5L096BA15 ,  5L096DA02 ,  5L096FA19 ,  5L096FA23 ,  5L096FA34 ,  5L096GA51 ,  5L096HA08 ,  5L096JA03

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 画像照合装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-274088   出願人：ソニー株式会社
• 指紋照合装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-178300   出願人：富士通株式会社
• 特開平4-119487
  
• 特開平4-119487