特許

J-GLOBAL ID：200903091774263510

チタン(II)又はジルコニウム(II)錯体の改良製法

発明者： ローゼン, ロバート ケイ ,  コルザマー, ブライアン ダブリュー エス
出願人/特許権者： ザ ダウ ケミカル カンパニー
代理人 (1件)： 斉藤 武彦 (外1名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-517583
公開番号（公開出願番号）：特表平10-510262
出願日： 1995年11月02日
公開日（公表日）： 1998年10月06日
要約：

【要約】錯体金属が+2形式酸化状態にある単一環状、非局在化、π-結合リガンド基をもつチタン及びジルコニウム錯体がチタン又はジルコニウムハライドとn-アルキルグリニャール試薬との反応によって高収率且つ高純度で製造される。この金属錯体はα-オレフィン重合触媒の触媒成分として用いられる。

請求項（抜粋）：

1つ且つ唯1つの環状の、非局在化π-結合基をもち且つ式: ここでMは+2形式酸化状態のチタン又はジルコニウムであり; Lは環状の、非局在化、アニオン性、π-系を有すると共に該系を介してMに結合している基でありまたこの基はZにも結合している; Zはσ-結合を介してMに結合している基であって、ホウ素、又は元素の周期律表の14族の1員をもち且つ窒素、リン、硫黄又は酸素をももち、さらに60以下の非水素原子をもつ基であり; Xは中性の共役ジエンであり、所望により1以上のヒドロカルビル基で置換していてもよく、且つ該Xは40以下の炭素原子をもちまたMとπ-錯体を形成している; X’はアミン、ホスフィン及びエーテルから選ばれる中性のルイス塩基配位子であり且つ該X’は3〜20の非水素原子をもつ、;そして nは0〜3の数である; に相当する金属錯体の製造方法であって、式: ここでM*は+3形式酸化状態のチタン又はジルコニウムであり; M**は+4形式酸化状態のチタン又はジルコニウムであり; X*はハライドであり;そして L、Z、X’及びnは前記定義のとおりである;に相当する金属ハライドをXに相当する遊離ジエンと接触させ、そしてその後に又は同時に生成反応混合物をC1-20n-アルカンのグリニャール誘導体と接触させて目的とする金属錯体を形成することからなる上記の金属錯体の製造方法。