特許
J-GLOBAL ID:200903091776592561

表面形状測定装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三好 秀和 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-034365
公開番号(公開出願番号):特開平7-243820
出願日: 1994年03月04日
公開日(公表日): 1995年09月19日
要約:
【要約】【目的】 本発明は、光線の走査速度不均一性等による測定誤差を軽減し、また被測定物面上の光点の位置判定処理を簡略化することを目的とする。【構成】 被測定物4表面に走査光線を投光して光点走査する光線走査手段1と、前記走査光線の一部を分割した参照用走査光線を入射して時間測定基準パルスを発生する参照用光検出器3と、被測定物4表面に走査された光点の反射光をスリット板6を介して検出し測定パルスを発生する測定パルス用光検出器7と、時間測定基準パルスの発生時点から測定パルスの発生時点までの時間を求め、この時間に基づいて被測定物4表面上の光点の位置を判定し、この光点の位置から表面形状を求める信号処理手段8とを有することを特徴とする。
請求項(抜粋):
被測定物表面に走査光線を投光して光点走査する光線走査手段と、該光線走査手段からの走査光線の一部を分割して参照用走査光線とするミラーと、前記参照用走査光線を入射して時間測定基準パルスを発生する参照用光検出器と、前記被測定物表面に走査された光点の反射光をスリット板を介して検出し測定パルスを発生する測定パルス用光検出器と、前記時間測定基準パルスの発生時点から前記測定パルスの発生時点までの時間を求め該時間に基づいて前記被測定物表面上の光点の位置を判定し該光点の位置から前記被測定物の表面形状を求める信号処理手段とを有することを特徴とする表面形状測定装置。

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