特許

J-GLOBAL ID：200903091783833507

光磁気記録媒体製造装置

発明者： 佐藤 達哉 ,  岡本 弘之
出願人/特許権者： 株式会社リコー
代理人 (1件)： 高野 明近 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-355851
公開番号（公開出願番号）：特開平5-171409
出願日： 1991年12月20日
公開日（公表日）： 1993年07月09日
要約：

【要約】【目的】 ディスクの内周から外周にかけて、レーザ光強度の変化の少ない光磁気ディスクの製造を可能とする。【構成】 基板1は回転導入機3により面内で自転が可能である。対をなす支持体兼用電極4はその間に蒸発源5を支持している。第1膜厚補正用マスク7aおよび第2膜厚補正用マスク7bは真空槽14内にあり、ガイドレール12に沿って移動し、真空槽13内に導入される。膜厚均一化用マスク11が支持体9により支持され膜厚補正用マスクよりも蒸発源側に配置されている。膜厚均一化用マスク11は回転導入機10により面内で自転させられる。これにより、基板及び膜厚補正用マスクが必ずしも蒸発源の直上に配置されていなくても膜厚分布を所定の分布とすることが可能となり、複数の基板に同時に成膜することが可能となる。

請求項（抜粋）：

真空蒸着用の真空槽と、複数の蒸発源と、該蒸発源に対向させ複数の円板状の基板を保持する基板ホルダと、前記蒸発源と前記基板ホルダとの間に配置され、膜厚を基板の径方向に連続的あるいは段階的に変化させ、その際に膜厚が外周側の方が内周側よりも膜厚が小さくなるように開口部を設定した第1膜厚補正用マスクと、膜厚が外周側の方が内周側よりも膜厚が大きくなるように開口部を設定した第2膜厚補正用マスクと、前記真空槽に接続した膜厚補正用マスクの収納および交換用の補助真空槽と、前記第1及び第2膜厚補正用マスクと基板との間の位置関係を規定する規定手段と、前記第1及び第2膜厚補正用マスクを前記2つの真空槽の間で移動させる移動手段と、前記第1及び第2膜厚補正用マスクよりも蒸発源側で前記各蒸発源に対応するように配置された膜厚均一化用マスクとから成り、該膜厚均一化用マスクを面内で自転させかつ前記基板を面内で自転させつつ真空蒸着することを特徴とする光磁気記録媒体製造装置。