特許
J-GLOBAL ID：200903091788578548
パターン付基板の作成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-301961
公開番号（公開出願番号）：特開平6-148904
出願日： 1992年11月12日
公開日（公表日）： 1994年05月27日
要約：
【要約】【目的】 本発明は電子装置等に用いられる、精密な位置合わせマークを要する基板に関するもので、寸法、形状、位置精度等の再現性が高く、生産性に優れて低コストの基板を提供することを目的とする。【構成】 オフセット印刷により主たる機能パターンと第一の位置合わせマーク、ベタ塗布部分を形成し、第一の位置合わせマークを起点に、ベタ塗布部分を切削、除去する方式により、第二の位置合わせマークを形成することによる。
請求項（抜粋）：
基板上にオフセット印刷で機能パターンおよび第1の位置合わせマークを作成し、組立作業を行うことを目的とした第2の位置合わせマークを、この第1の位置合わせマークを起点として形成したパターン付基板の作成方法。
IPC (5件)：
G03F 9/00
, B41F 17/14
, B41F 33/14
, H01L 23/12
, H05K 3/00
