特許
J-GLOBAL ID:200903091791890005

レーザによるプリント基板の穴明け加工方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-202779
公開番号(公開出願番号):特開平5-055724
出願日: 1991年08月13日
公開日(公表日): 1993年03月05日
要約:
【要約】【目的】プリント基板に、良好な導電層が形成しうるようなブラインドホールを形成するためのレーザによるプリント基板の穴明け加工方法を提供する。【構成】比較的発振時間の長い加工用のレーザパルスと、比較的発振時間の短いクリーニング用のレーザパルスを設定し、加工用のレーザパルスで開口部の下にある銅箔に達する穴を加工した後、その穴内にクリーニング用のレーザパルスを照射して、残留樹脂のない穴を形成する。
請求項(抜粋):
予め穴の開口部の銅箔が除去されたプリント基板に、レーザ光を照射して、開口部の下にある銅箔に達するブラインドホールを形成するためのレーザによるプリント基板の穴明け加工方法において、比較的発振時間の長い加工用のレーザパルスと、比較的発振時間の短いクリーニング用のレーザパルスを設定し、加工用のレーザパルスで開口部の下にある銅箔に達する穴を加工した後、その穴内にクリーニング用のレーザパルスを照射して、ブラインドホールを形成することを特徴とするレーザによるプリント基板の穴明け加工方法。
IPC (5件):
H05K 3/00 ,  B23K 26/00 ,  B23K 26/00 330 ,  B23K 26/14 ,  B23K101:42

前のページに戻る