特許
J-GLOBAL ID：200903091799808855
スパッタリング装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大島 陽一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-262855
公開番号（公開出願番号）：特開平6-088230
出願日： 1992年09月04日
公開日（公表日）： 1994年03月29日
要約：
【要約】【目的】 簡単な構造をもってターゲット材を監視し、その寿命を的確に判断することが可能なスパッタリング装置を提供する。【構成】 ターゲット材のバッキングプレート側に穿設された所定の深さの空孔と反応室とが連通したことをガスの流入に伴う圧力の変化などにより検出することで、簡単にターゲット材の摩耗による寿命を知ることができ、メンテナンス時期を的確に判断することができる。
請求項（抜粋）：
第1のガスが充填された反応室内に、ターゲット材及び該ターゲット材をその裏面側から支持するバッキングプレートを具備するターゲットユニットと、処理を施すべき基板とを配置してなるスパッタリング装置であって、前記ターゲット材の前記バッキングプレート側に穿設された所定の深さの空孔と、前記ターゲット材が摩耗して前記空孔が前記反応室に連通したことを検出する手段とを有することを特徴とするスパッタリング装置。
IPC (2件)：
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