処理液供給装置及び処理液供給方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴江武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-087342
公開番号（公開出願番号）：特開2001-269608
出願日： 2000年03月27日
公開日（公表日）： 2001年10月02日
要約：

【要約】【課題】気泡を効率的に除去する。【解決手段】ウェハにレジスト液を吐出する吐出ノズル67と、レジスト液を収容するレジストタンク62と、吐出ノズル67とタンク62とを結ぶ供給配管63a〜63dと、供給配管63c,63d間に配設されたポンプ66と、ポンプ66の作動を制御するポンプ駆動機構と、一端が配管63bから分岐し、他端がポンプ66に配設された循環配管68と、供給配管63b、63c間に配設され、レジスト液を濾過して気泡を除去するフィルタ65と、このフィルタ65により濾過され気泡を含むレジスト液を排出するドレン配管71と、ドレン配管71に配設され、フィルタ65から排出されるレジスト液の流量を制御するバルブ71aからなる。

請求項（抜粋）：

被処理基板に処理液を吐出する吐出ノズルと、前記処理液を収容する収容容器と、前記吐出ノズルと前記容器とを結ぶ供給配管と、前記供給配管に配設されたポンプと、前記ポンプの作動を制御するポンプ駆動機構と、一端が前記容器と前記ポンプとの間の配管から分岐し、他端が前記ポンプに配設された循環配管と、前記供給配管途中であって前記循環配管の一端と他端の間に配設され、前記処理液を濾過して異物を除去するフィルタと、このフィルタにより濾過され異物を含む処理液を排出するドレン配管と、このドレン配管に配設され、前記フィルタから排出される処理液の流量を制御するバルブとを具備してなることを特徴とする処理液供給装置。

IPC (5件)：

B05C 11/10 , B01D 19/00 , B05D 3/00 , G03F 7/16 501 , H01L 21/027

FI (6件)：

B05C 11/10 , B01D 19/00 G , B05D 3/00 B , G03F 7/16 501 , H01L 21/30 564 C , H01L 21/30 569 A

Fターム (21件)：

2H025AA18 , 2H025EA04 , 4D011AA08 , 4D011AD03 , 4D011AD06 , 4D075AC74 , 4D075AC84 , 4F042AA07 , 4F042BA12 , 4F042CA01 , 4F042CA07 , 4F042CB02 , 4F042CB03 , 4F042CB19 , 4F042CB20 , 4F042CB25 , 4F042EB18 , 5F046JA02 , 5F046JA03 , 5F046LA03 , 5F046LA04

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平3-114565
塗布装置と塗布方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-067754 出願人：東京エレクトロン株式会社
特開昭62-165919

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