特許
J-GLOBAL ID：200903091802399040
基板保持装置および該装置を使用した露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 義雄 (外1名)
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1998005349
公開番号（公開出願番号）：WO1999-028957
出願日： 1998年11月27日
公開日（公表日）： 1999年06月10日
要約：
【要約】本発明は、例えば半導体素子、液晶表示素子、撮像素子(CCD等)、薄膜磁気ヘッド等のマイクロデバイスを製造するフォトリソグラフィ行程で使用される各種製造装置に好適な基板保持装置および上述の如きマイクロデバイスを製造するための露光装置に関する。本発明の基板保持装置は低熱膨張性セラミクスを母材とし、該母材を所定形状に表面仕上げ加工後に該母材よりも硬度が大きい材料のコーティングを施している。また、本発明の露光装置は基板テーブルと基板ホルダとおよび基準マークが形成された基準部材とが熱膨張係数がほぼ等しい低熱膨張性の材料で形成されている。
請求項（抜粋）：
常温で熱膨張係数が0〜0.5ppmの低熱膨張性セラミクスを母材とし、該母材を所定形状に表面仕上げ加工後に、該母材よりも硬度が大きい材料のコーティングを施したことを特徴とする基板保持装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/68 N
, H01L 21/30 515 G
