特許
J-GLOBAL ID:200903091810824485
半導体素子
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-039445
公開番号(公開出願番号):特開平7-249797
出願日: 1994年03月10日
公開日(公表日): 1995年09月26日
要約:
【要約】【目的】 AlGaInN系結晶から成る半導体素子に低抵抗かつ安定なオーミックコンタクトを形成する。【構成】 AlGaInN系結晶のうえにGaP層18,19などの他のIIIV族化合物半導体をエピタキシャル成長し、このうえにオーミック電極を形成する。【効果】 低抵抗かつ安定なオーミックコンタクトが得られ、素子の性能と信頼性が向上する。
請求項(抜粋):
AlGaInN系の多元結晶から成る二重異種接合を有する半導体素子において、その最上層にさらに窒化物以外の他のIIIV族化合物半導体層をつけた構造を有する半導体素子。
IPC (4件):
H01L 33/00
, H01L 21/28 301
, H01L 29/43
, H01S 3/18
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