特許

J-GLOBAL ID：200903091813195829

水素分離体及びその製造方法

発明者： 酒井 修 ,  山崎 哲
出願人/特許権者： 日本碍子株式会社
代理人 (1件)： 渡邉 一平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-181594
公開番号（公開出願番号）：特開2005-013855
出願日： 2003年06月25日
公開日（公表日）： 2005年01月20日
要約：

【課題】熱サイクルを加えても水素分離層の剥離や欠陥が発生し難く、気密性が低下し難い水素分離体を提供する。【解決手段】多孔質基体2と、多孔質基体2に配設された水素分離層3とを備える水素分離体1であって、水素分離層3が、多孔質基体2の一の表面5に所定の金属層4を介在させた状態で配設され、所定の金属層4を介在させることにより、水素を含む気体が一又は他の表面側から流入したときに水素が他又は一の表面側から流出することを妨げずに、水素分離層3と多孔質基体2との間の接着性を、両者の直接的な接触による場合よりも向上させてなることを特徴とする水素分離体1。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

その一の表面から他の表面まで連通する多数の細孔を有する多孔質基体と、前記多孔質基体に配設された、前記一又は他の表面側から流入する水素を含む気体のうち水素だけを選択的に透過させて前記他又は一の表面側から流出させることが可能な水素分離層とを備える水素分離体であって、 前記水素分離層が、前記多孔質基体の前記一の表面に所定の金属層を介在させた状態で配設され、前記所定の金属層を介在させることにより、水素の前記他又は一の表面側からの流出を妨げることなしに、前記水素分離層と前記多孔質基体との間の接着性を、両者の直接的な接触による場合よりも向上させてなることを特徴とする水素分離体。

IPC (6件)：

B01D71/02 ,  B01D53/22 ,  B01D69/10 ,  C01B3/56 ,  C04B41/88 ,  C23C14/18

FI (6件)：

B01D71/02 500 ,  B01D53/22 ,  B01D69/10 ,  C01B3/56 Z ,  C04B41/88 S ,  C23C14/18

Fターム (25件)：

4D006GA41 ,  4D006MA03 ,  4D006MA06 ,  4D006MA31 ,  4D006MB15 ,  4D006MB18 ,  4D006MC02X ,  4D006MC03X ,  4D006NA31 ,  4D006NA45 ,  4D006NA49 ,  4D006NA50 ,  4D006PA01 ,  4D006PA02 ,  4D006PB18 ,  4D006PB66 ,  4G140FA06 ,  4G140FB09 ,  4G140FC01 ,  4G140FE01 ,  4K029AA07 ,  4K029BA17 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029GA03

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 水素分離構造体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-203238   出願人：トヨタ自動車株式会社, 豊田合成株式会社
• 水素分離複合体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-322399   出願人：住友電気工業株式会社