特許
J-GLOBAL ID:200903091836320094

超微粒子製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 鎌田 文二 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-220013
公開番号(公開出願番号):特開平10-060504
出願日: 1996年08月21日
公開日(公表日): 1998年03月03日
要約:
【要約】【課題】 金属等の超微粒子を高温に加熱することなくかつ一定粒径に揃った均質なものを得る。【解決手段】 固定基板1上に所定間隔で複数個の半導体レーザ素子2a、2b......を配置し、そのレーザ光の特定波長のものをガルバノミラー3をモータ4により回転させて選択し伝送系6を介して試料5に照射して試料5の金属等をその金属の分子結合伸縮振動波長で分離して超微粒子を製造する。
請求項(抜粋):
波長可変の中赤外域のレーザ光を発生するレーザ装置から金属等の材料の分子結合の伸縮振動に共鳴する波長のレーザ光を上記金属等の材料に照射して、その照射された部分の材料分子と分子の結合を切り離して均質な超微粒子を発生させるようにして成る超微粒子製造方法。
IPC (3件):
B22F 9/02 ,  B01J 19/12 ,  H01S 3/30
FI (3件):
B22F 9/02 Z ,  B01J 19/12 H ,  H01S 3/30 A

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