特許

J-GLOBAL ID：200903091852381451

珪素含有スルホニウム塩化合物

発明者： 岩佐 繁之 ,  中野 嘉一郎 ,  長谷川 悦雄
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-329366
公開番号（公開出願番号）：特開平7-188417
出願日： 1993年12月27日
公開日（公表日）： 1995年07月25日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】200nm以下の短波長光に対して透明性が高く、酸素プラズマに対する耐ドライエッチ性の高い珪素含有スルホニウム塩化合物を提供する。【構成】シランあるいはシロキサン誘導体とω,ω’-チオジアルカノールの重合反応から得られた高分子化合物をハロゲン化アルキルと反応させることによって得られる一般式(I)で示されるような珪素含有スルホニウム塩化合物。一般式(I)中においてXはシロキサン鎖等を示す。(nは1〜300の正の整数、Y-は対アニオン、Zは水素原子もしくはトリメチルシリル基、R1、R2は炭素数2〜10の直鎖状、分岐状あるいは環状アルキレン基、R3は炭素数3〜7の直鎖状、分岐状または環状の2-オキソアルキル基、Xは一般式(II)あるいは(III)を示す。)(mは1〜100の正の整数、R4、R5は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状または環状アルキル基あるいはフェニル基を示す。)

請求項（抜粋）：

下記の一般式(I)にて表されることを特徴とする珪素含有スルホニウム塩化合物。(nは1〜300の正の整数、Y ̄は対アニオン、Zは水素原子もしくはトリメチルシリル基、R1 、R2 は炭素数1〜10の直鎖状、分岐状あるいは環状アルキレン基、R3 は炭素数3〜7の直鎖状、分岐状または環状の2ーオキソアルキル基、Xは一般式(II)あるいは(III)を示す。)(mは1〜100の正の整数、R4 、R5 は炭素数1〜8の直鎖状、分岐状または環状アルキル基あるいはフェニル基を示す。)

IPC (2件)：

C08G 77/48 NUM ,  C08G 59/68 NKL