特許

J-GLOBAL ID：200903091857991088

ウエハチャック異物除去方法

発明者： 上田 弘治
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 西山 恵三 ,  内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-115929
公開番号（公開出願番号）：特開2004-327484
出願日： 2003年04月21日
公開日（公表日）： 2004年11月18日
要約：

【課題】サブミクロンサイズの異物等が存在してもウエハチャックを傷つけることなく確実に除去することができ、スループットを低下させる事なくウエハの平面度を高精度に確保することができる異物除去方法を提供すること。【解決手段】XYステージ上にウエハを吸着するウエハチャックと、このウエハ接触面に付着した異物に向かって洗浄液を吐出する洗浄ユニットを有し、この洗浄ユニットは異物検査をする顕微鏡とマルチノズルピエゾポンプ、この顕微鏡とマルチノズルピエゾポンプを駆動する機構部とを備え、この機構部はXYステージ及びマスクステージ空調空間外部に配置し、異物除去作業による空調環境への影響を排除する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

XYステージ上に設けられた被洗浄物のウエハチャックのウエハ接触面に付着した異物を除去する異物除去方法であって、前記ウエハチャックに付着した前記異物に向かって洗浄液を吐出するマルチノズルポンプとマルチノズルポンプが移動自在な機構部とを備え、この機構部はXYステージ空調空間外部に配置され、その機構部の配置位置から前記ウエハチャックのウエハ接触面へ前記マルチノズルポンプを接近させ、機構部の配置位置へ前記マルチノズルポンプを退去させる事を特徴とする異物除去方法。

IPC (2件)：

H01L21/027 ,  G03F7/20

FI (2件)：

H01L21/30 503G ,  G03F7/20 521

Fターム (5件)：

5F046AA17 ,  5F046AA28 ,  5F046CC01 ,  5F046CC08 ,  5F046CC20