特許
J-GLOBAL ID：200903091869560341
熱処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大井 正彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-126688
公開番号（公開出願番号）：特開平5-299367
出願日： 1992年04月21日
公開日（公表日）： 1993年11月12日
要約：
【要約】【目的】 簡単な構成によって、熱処理容器に供給されるプロセスガスを適当な高さの安定した温度状態に保つことができ、良好な熱処理を達成することのできる熱処理装置を提供すること。【構成】 被処理体が配置される熱処理容器と、この熱処理容器内にプロセスガスを供給するためのプロセスガス供給路と、このプロセスガス供給路における熱を受ける個所に配設された、化学的に不活性な物質より成る繊維状体とを有して成ることを特徴とする。繊維状体は、不純物濃度が100ppm以下の石英または炭化ケイ素により構成され得る。
請求項（抜粋）：
被処理体が配置される熱処理容器と、この熱処理容器内にプロセスガスを供給するためのプロセスガス供給路と、このプロセスガス供給路における熱を受ける個所に配設された、化学的に不活性な物質より成る繊維状体とを有して成ることを特徴とする熱処理装置。
IPC (2件)：
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