特許
J-GLOBAL ID:200903091870574976

投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高梨 幸雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-201777
公開番号(公開出願番号):特開平9-036026
出願日: 1995年07月14日
公開日(公表日): 1997年02月07日
要約:
【要約】【目的】 オプティカルインテグレータを用いた照明系を利用し、被照射面を均一に照明し高集積度の半導体デバイスの製造を容易にした投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法を得ること。【構成】 光源からの光束を2次光源を形成する複数の微小レンズより成るオプティカルインテグレータを有する照明系により被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影し露光する際、該照明系は該オプティカルインテグレータの光入射側に該オプティカルインテグレータの複数の微小レンズのうち少なくとも1つの微小レンズを通過する光量を制御する光量制御手段を該オプティカルインテグレータの中心の微小レンズあるいは中心に対にして回転対称で正方形の頂点に位置する4つの微小レンズの少なくとも一方に有していること。
請求項(抜粋):
光源からの光束を2次光源を形成する複数の微小レンズより成るオプティカルインテグレータを有する照明系により被照射面上のパターンを照明し、該パターンを投影光学系により基板面上に投影し露光する際、該照明系は該オプティカルインテグレータの光入射側に該オプティカルインテグレータの複数の微小レンズのうち少なくとも1つの微小レンズを通過する光量を制御する光量制御手段を該オプティカルインテグレータの中心の微小レンズあるいは中心に対にして回転対称で正方形の頂点に位置する4つの微小レンズの少なくとも一方に有していることを特徴とする投影露光装置。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G02B 27/18 ,  G03F 7/20 521
FI (4件):
H01L 21/30 516 D ,  G02B 27/18 Z ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D

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