特許
J-GLOBAL ID：200903091882443338
櫛歯式アクチュエータの製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-302734
公開番号（公開出願番号）：特開平5-302182
出願日： 1992年11月13日
公開日（公表日）： 1993年11月16日
要約：
【要約】【目的】櫛歯式の可動電極と固定電極を組み合わされた状態で基体から作り出して、電極間隙をμmオーダにすることができるようにする。【構成】SF6 ガスとO2 ガスの混合ガスを用いてのドライエッチングによりAlマスクあるいはシリコン酸化膜マスクを設けたシリコン基体を加工する。これにより垂直な側壁をもつ凹部ないし貫通孔が形成でき、任意の形状、寸法の可動部と固定部とからなる櫛歯式アクチュエータが得られる。さらに、エッチングストップ層としてのシリコン酸化膜をシリコン基体に埋設することにより一層高精度の加工が可能になる。
請求項（抜粋）：
一つのシリコン基体の両面からの加工により狭い間隔を介して組合わせられた櫛歯式の可動電極と櫛歯式の固定電極をそれぞれ有する可動部と固定部を作り出す櫛歯式アクチュエータの製造方法において、加工を六弗化硫黄と酸素の混合ガスを用いたドライエッチングにより行うことを特徴とする櫛歯式アクチュエータの製造方法。
IPC (4件)：
C23F 4/00
, F03G 7/00
, H01L 21/302
, H02N 1/00
