特許
J-GLOBAL ID：200903091882694098
回転塗布装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-232271
公開番号（公開出願番号）：特開平5-047650
出願日： 1991年08月20日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：
【要約】【目的】 試料表面の塗布ムラがなく、パーティクルの付着の無い塗布膜を形成することが可能な回転塗布装置を提供することを目的とする。【構成】 レジスト等を回転塗布する装置おいて、容器内にガス源からガスを供給する配管等からなるガス供給手段109と、容器内に導入されるガスに紫外線を照射するための紫外線手段107を設けたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
容器と、前記容器内で試料を保持し回転する機構と、前記試料表面に液状塗布材料を供給する手段を有する回転塗布装置において、前記容器内にガス源からガスを供給するガス供給手段と、前記容器内に導入されるガスに紫外線を照射するための紫外線照射手段を設けたことを特徴とする回転塗布装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, B05C 11/08
, G03F 7/16 502
