特許

J-GLOBAL ID：200903091884072450

N-オキシル化合物の製造方法

発明者： 中原 豊 ,  吉川 和美 ,  根岸 由典
出願人/特許権者： 旭電化工業株式会社
代理人 (1件)： 三浦 良和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-061185
公開番号（公開出願番号）：特開平6-247932
出願日： 1993年02月25日
公開日（公表日）： 1994年09月06日
要約：

【要約】【目的】 温和な条件下で短時間かつ高収率にN-オキシル化合物を得る製造方法を提供する。【構成】 N-非置換-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン化合物を過酸化水素で酸化して2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-N-オキシル化合物を製造する方法において、触媒としてヘテロ原子がケイ素であるヘテロポリ酸またはそのアルカリ金属塩あるいはアンモニウム塩を用いることを特徴とするN-オキシル化合物の製造方法。

請求項（抜粋）：

N-非置換-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン化合物を過酸化水素で酸化して2,2,6,6-テトラメチルピペリジン-N-オキシル化合物を製造する方法において、触媒としてヘテロ原子がケイ素であるヘテロポリ酸またはそのアルカリ金属塩あるいはアンモニウム塩を用いることを特徴とするN-オキシル化合物の製造方法。

IPC (4件)：

C07D211/94 ,  B01J 23/24 ,  C07D491/113 ,  C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭59-008919
  
• 特開昭61-058548