特許
J-GLOBAL ID：200903091885611134

プラズマ処理容器内部材の製造方法

発明者：
住母家 岩夫

住母家 岩夫 について

, 
伊藤 弘志

伊藤 弘志 について


出願人/特許権者：
株式会社 電硝エンジニアリング

株式会社 電硝エンジニアリング について


代理人 (1件)： 中倉 和彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-077896
公開番号（公開出願番号）：特開2009-161848
出願日： 2008年03月25日
公開日（公表日）： 2009年07月23日
要約：
【課題】 大気プラズマ溶射法で、Y2O3の溶射膜を備えたプラズマエロージョンに強いプラズマ処理容器内部材の製造方法を提供する。【解決手段】 本発明のプラズマ処理容器内部材の製造方法は、1組のアノード11とカソード12を有するプラズマ溶射装置を用いて従来と同じ方法で気孔率5%以上のY2O3の溶射膜21を形成する。その後、この溶射膜21の上に、気孔率が5%未満のY2O3の溶射膜22を形成する。気孔率が5%未満の溶射膜の形成方法は、つぎの通りである。1組のアノードとカソード間で放電し、作動ガスを供給して発生するプラズマに、粒径が10〜45μmのY2O3の粉末状素材を供給する。粒径を通常のプラズマ溶射の場合より小さくすることで、気孔率が5%未満のY2O3の溶射膜22を形成することができる。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
セラミック製の基材の表面に大気プラズマ溶射により気孔率が5%以上のY2O3溶射皮膜を形成し、該溶射皮膜の上に、気孔率が5%未満のY2O3溶射皮膜を重ねて形成することを特徴とするプラズマ処理容器内部材の製造方法。
IPC (6件)：
C23C 4/10 ,  C23C 4/12 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/31 ,  H01L 21/205 ,  C23C 16/40
FI (6件)：
C23C4/10 ,  C23C4/12 ,  H01L21/302 101G ,  H01L21/31 C ,  H01L21/205 ,  C23C16/40
Fターム (34件)：
4K030AA16 ,  4K030AA17 ,  4K030AA18 ,  4K030BA01 ,  4K030BA42 ,  4K030BA43 ,  4K030BB13 ,  4K030CA05 ,  4K030FA01 ,  4K030HA01 ,  4K030LA11 ,  4K031AA01 ,  4K031AB03 ,  4K031AB04 ,  4K031AB09 ,  4K031CB14 ,  4K031CB18 ,  4K031CB42 ,  4K031DA04 ,  4K031EA07 ,  4K031EA10 ,  5F004AA16 ,  5F004BB22 ,  5F004BB23 ,  5F004BB30 ,  5F004BD04 ,  5F004DA00 ,  5F004DA01 ,  5F004DA11 ,  5F004DA13 ,  5F004DA17 ,  5F045AA08 ,  5F045EC05 ,  5F045EM05
引用特許：
出願人引用 (2件)

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