特許

J-GLOBAL ID：200903091913531583

三次元LSI積層装置

発明者： 猪谷 彦太郎 ,  堀内 聖二 ,  藤原 彰彦 ,  藤田 善仁
出願人/特許権者： 三菱重工業株式会社
代理人 (1件)： 光石 俊郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-303987
公開番号（公開出願番号）：特開平9-148207
出願日： 1995年11月22日
公開日（公表日）： 1997年06月06日
要約：

【要約】【課題】 三次元LSI積層装置において、2枚のウェーハを変形なく精度良く接着することで高精度な三次元LSIを製造可能とする。【解決手段】 石英ガラス29に保持された上ウェーハW1 の下面に紫外線硬化型接着剤を塗布し、この上ウェーハW1 に対して真空チャック22に吸着保持された下ウェーハW2 を位置決め押圧した状態で、石英ガラス29を透過した紫外線を照射して接着剤を硬化させることで、両ウェーハW1 ,W2 を接着して積層三次元LSIを形成する三次元LSI積層装置において、上ウェーハW1 を保持する石英ガラス29の変形を防止するバックアップガラス30をこの石英ガラス29の上面に設ける。

請求項（抜粋）：

上ウェーハを下面に保持した石英ガラスがハウジングを介して本体ステージの上部に固定される一方、前記上ウェーハに対向する下ウェーハを上面に保持された移動ステージが前記本体ステージに対して互いに直交する3方向に移動調整自在に支持され、前記上ウェーハと下ウェーハとの対向する少なくとも一方の面に接着剤を塗布し、前記移動ステージを移動して前記上ウェーハに対して前記下ウェーハが位置決め押圧された状態で、上方より前記石英ガラスを透過した熱エネルギ線を照射して前記接着剤を硬化させることで、前記上ウェーハと下ウェーハとを接着して積層三次元LSIを形成する三次元LSI積層装置において、前記上ウェーハに対する前記移動ステージ上の前記下ウェーハの押圧時における前記石英ガラスの変形を防止する透過性耐変形部材を該石英ガラスの上面に設けたことを特徴とする三次元LSI積層装置。

IPC (2件)：

H01L 21/02 ,  H01L 27/00 301

FI (2件)：

H01L 21/02 B ,  H01L 27/00 301 B