特許
J-GLOBAL ID:200903091916627662

被覆すべき表面の清浄化方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 宇井 正一 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-324046
公開番号(公開出願番号):特開平6-299320
出願日: 1993年12月22日
公開日(公表日): 1994年10月25日
要約:
【要約】【目的】 被覆すべき表面の清浄化を、後に被覆処理のために使用される同じ処理装置を使って行うことができる乾式の表面清浄化方法を提供する。【構成】 清浄化しようとする表面に結合層を設けるか、または表面層を結合層として利用し、そしてこの結合層を除去して、後に被覆すべき表面を得るようにする。
請求項(抜粋):
後に被覆すべき表面の清浄化方法であって、表面に結合層を設けるか、または表面層を結合層として利用し、そして、後に被覆すべき表面を得るために、この結合層を除去することを特徴とする方法。
IPC (5件):
C23C 14/02 ,  B08B 7/00 ,  C23F 4/00 ,  C23F 4/02 ,  C23G 5/00

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