特許

J-GLOBAL ID：200903091942185678

走査露光方法、走査型露光装置及びその製造方法、並びにデバイス及びその製造方法

発明者： 徳田 憲昭 ,  白石 健一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 立石 篤司
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1999001118
公開番号（公開出願番号）：WO1999-046807
出願日： 1999年03月09日
公開日（公表日）： 1999年09月16日
要約：

【要約】基板(W)へのパターン転写の際に、ショット領域の全域で一定の積算露光量を目標値とした場合に生じるパターン線幅の転写誤差に応じて、制御系(50)が、事前計測又は計算によって求められ、記憶装置(51)に記憶された積算露光量の目標量に応じた情報に基づいて、基板の露光量調整を行って走査露光を行う。この結果、フレアによるカブリ露光等の影響を低減することができるので、基板上の各ショット領域で線幅分布の均一性を高精度に確保しつつ、各ショット領域へのパターン転写を行うことができる。

請求項（抜粋）：

露光光によりマスクを照明するとともに、前記マスクと基板とを同期移動させながら、前記マスクに形成されたパターンを、投影光学系を介して前記基板上の複数のショット領域に順次転写する走査露光方法において、 前記基板の端部に位置する特定のショット領域の露光に際して、隣接するショット領域が無い側の端部で、前記端部以外の部分と異なるような露光量調整をして、その特定のショット領域に対する前記パターンの転写を行うことを特徴とする走査露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 507 C ,  G03F 7/20 521