露光装置及び方法、該露光装置の製造方法並びに該露光装置を用いたデバイス製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-173775
公開番号（公開出願番号）：特開2000-133588
出願日： 1999年06月21日
公開日（公表日）： 2000年05月12日
要約：

【要約】【課題】極めて微細なパターンを転写すること【解決手段】投影原版上に設けられたパターンの像を基板上に転写する露光装置であって、200nm以下の露光エネルギービームを供給する光源;該光源からの露光エネルギービームを前記投影原版へ導く照明系;及び前記投影原版からの露光エネルギービームに基づいて、前記パターンの像を前記基板上に形成する投影系;を含み、前記投影系は、前記露光エネルギービームの光路に沿って配置された少なくとも2つの屈折光学部材を含み、前記投影系中の全ての前記屈折光学部材は、少なくとも2種類以上のフッ化物の結晶材料からなる。

請求項（抜粋）：

投影原版上に設けられたパターンの像を基板上に転写する露光装置において、200nm以下の露光エネルギービームを供給する光源;該光源からの露光エネルギービームを前記投影原版へ導く照明光学系;及び前記投影原版からの露光エネルギービームに基づいて、前記パターンの像を前記基板上に形成する投影光学系;を含み、前記投影光学系は、前記露光エネルギービームの光路に沿って配置された少なくとも2つの屈折光学部材を含み、前記投影光学系中の全ての前記屈折光学部材は、少なくとも2種類以上のフッ化物の結晶材料からなることを特徴とする露光装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G02B 1/02 , G02B 13/24 , G03F 7/20 521

FI (5件)：

H01L 21/30 515 D , G02B 1/02 , G02B 13/24 , G03F 7/20 521 , H01L 21/30 515 B

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