特許
J-GLOBAL ID：200903091954390846
薄膜形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宇高 克己
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-030619
公開番号（公開出願番号）：特開平7-238381
出願日： 1994年02月28日
公開日（公表日）： 1995年09月12日
要約：
【要約】【目的】 プラズマの発生に支障となっている放電管先端部分の汚染を解決し、薄膜を良好に形成できる技術を提供することである。【構成】 プラズマ発生手段と、このプラズマ発生手段によるプラズマが流出する筒体と、この筒体の先端面部に配設された回転体とを具備する薄膜形成装置。
請求項（抜粋）：
プラズマ発生手段と、このプラズマ発生手段によるプラズマが流出する筒体と、この筒体の先端面部に配設された回転体とを具備することを特徴とする薄膜形成装置。
IPC (3件)：
C23C 16/54
, C23C 16/50
, G11B 5/84
