特許

J-GLOBAL ID：200903091954877699

基板処理装置及び方法

発明者： 西澤 久雄
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-133518
公開番号（公開出願番号）：特開平8-323306
出願日： 1995年05月31日
公開日（公表日）： 1996年12月10日
要約：

【要約】【目的】 基板を搬送する際に薬液や水分が槽外に飛散して汚染やパーティクル発生の原因となることを防止すること。【構成】 基板を支持したリフタヘッドLH1を薬液槽CB側から水洗槽WB側に搬送する前に、液面センサ55で水洗槽WB中の純水の液面を監視しながらバルブV4を開放して槽内の純水をドレンする。よって、水洗槽WB中の純水の液面に基板やリフタヘッドLH1に付着した薬液が落下しても、水洗槽WB中の純水の液面から反応等によって発散する薬液や水分を含む液滴が水洗槽WB中の純水の液面よりもかなり高い位置にある水洗槽WBの内壁上部に遮られるので、薬液や水分を含む液適が水洗槽WB外に飛散することを防止でき、かかる液滴によって汚染やパーティクルが発生することを防止できる。

請求項（抜粋）：

第1の処理液を収容する第1の処理槽と、前記第1の処理液と異なる第2の処理液を収容する第2の処理槽と、基板を支持して前記第1の処理槽側から前記第2の処理槽側に基板を搬送する搬送手段と、前記搬送手段に支持された基板が前記第2の処理槽上方に搬送される前に、前記第2の処理槽中の処理液の液面を降下させる液面調節手段とを備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

B08B 3/04 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304

FI (4件)：

B08B 3/04 B ,  H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 S ,  H01L 21/304 341 C