特許
J-GLOBAL ID:200903091972367606
多元系金属酸化薄膜成膜装置及び成膜方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
大川 晃
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-332906
公開番号(公開出願番号):特開2004-273470
出願日: 2000年10月31日
公開日(公表日): 2004年09月30日
要約:
【課題】組成比が高精度に維持された多元系金属酸化薄膜を基板表面に形成する。【解決手段】処理室内に配置された基板表面に有機金属化合物を含むガスを導入して、基板表面に有機金属化合物を構成している金属化合物からなる薄膜を形成する多元系金属酸化膜成膜装置において、処理室内に被処理体としての基板を載置する載置台と共に上下動可能に設けられたバッフル板を有し、載置台とバッフル板により処理室を上部処理室と下部処理室とに上下に2分割する。下部処理室に排気口と基板搬入・搬出口を設置し、上部処理室が所定の均一な温度及び圧力に保たれ、多元系金属酸化膜の成膜に必要な極めて等方的な均熱・均圧処理空間を上部処理室内に形成する。基板は上部処理室内で成膜処理され、その結果、組成比が高精度で保たれた膜質の良い多元系金属酸化膜を基板表面に生成できる。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
成膜処理室内に配置された基板の表面に、複数種のガスを導入して、複数元素からなる薄膜を成膜する多元系金属酸化薄膜成膜装置であって、
前記基板を載置可能に構成された載置台と、該載置台と一体に設けられ、共に移動可能な排気バッフル板とからなる載置台ユニットと、
前記成膜処理室内を真空排気する排気機構を取り付け可能に構成された排気口と、
前記基板を前記成膜処理室内に搬入出可能に構成された搬入出口と、
前記載置台ユニットが、成膜処理を行う前記成膜処理位置に位置した際、前記成膜処理室を前記載置台及び前記バッフル板により上部処理室及び下部処理室に空間的に分割し、かつ、前記排気口及び前記搬入出口が、前記下部処理室に配置されることを特徴とする多元系金属酸化薄膜成膜処理装置。
IPC (6件):
H01L21/316
, C23C16/40
, C23C16/455
, C23C16/52
, H01L21/31
, H01L27/105
FI (6件):
H01L21/316 X
, C23C16/40
, C23C16/455
, C23C16/52
, H01L21/31 B
, H01L27/10 444B
Fターム (67件):
4K030AA11
, 4K030BA42
, 4K030EA05
, 4K030EA11
, 4K030GA04
, 4K030GA11
, 4K030JA09
, 4K030JA10
, 4K030KA12
, 4K030KA23
, 4K030KA41
, 4K030LA00
, 5F045AA04
, 5F045AB31
, 5F045AC07
, 5F045AC08
, 5F045AC11
, 5F045AD08
, 5F045AE13
, 5F045AE15
, 5F045AE17
, 5F045AE19
, 5F045AE21
, 5F045AE23
, 5F045BB02
, 5F045BB04
, 5F045BB08
, 5F045BB10
, 5F045BB14
, 5F045EB02
, 5F045EB03
, 5F045EB10
, 5F045EC05
, 5F045EF05
, 5F045EF20
, 5F045EK07
, 5F045EK08
, 5F045EK22
, 5F045EM10
, 5F045EN04
, 5F045GB05
, 5F058BA11
, 5F058BB07
, 5F058BC03
, 5F058BF06
, 5F058BF27
, 5F058BF29
, 5F058BG01
, 5F058BG02
, 5F058BG03
, 5F058BG04
, 5F058BJ01
, 5F083AD21
, 5F083AD49
, 5F083FR02
, 5F083JA15
, 5F083JA38
, 5F083JA39
, 5F083JA40
, 5F083JA43
, 5F083JA44
, 5F083KA01
, 5F083KA05
, 5F083KA19
, 5F083MA06
, 5F083MA17
, 5F083PR21
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