特許

J-GLOBAL ID：200903091982254613

プラズマ加工方法

発明者： 井上 潔
出願人/特許権者： 株式会社アイ・エヌ・アール研究所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-105195
公開番号（公開出願番号）：特開平5-255871
出願日： 1992年03月12日
公開日（公表日）： 1993年10月05日
要約：

【要約】【目的】 加工面に歪みとか格子欠陥を生じることがなく精密加工ができるようにする。【構成】 電極3と基板2の間に高周波電源4を接続し、放電によりプラズマを発生してエッチング加工するに当り、ノズル6から反応ガスを供給するようにし、その反応ガスの供給をオン、オフ制御して媒体圧力を10atm〜1Torr程度の高圧にして荒加工し、10Torr〜10-2Torr程度の低圧にして仕上加工する。

請求項（抜粋）：

電極と基板との間に電界を印加し、放電によりプラズマを発生してエッチング加工するプラズマ加工方法に於て、前記加工媒体を10atm〜1Torr程度の高圧にして荒加工し、10Torr〜10-2Torr程度の低圧に制御して仕上加工することを特徴とするプラズマ加工方法。

IPC (3件)：

C23F 4/00 ,  B23H 7/36 ,  H01L 21/302