特許

J-GLOBAL ID：200903091995867150

ポジ型レジスト組成物

発明者： 加藤 丈佳 ,  藤野 竹生 ,  新津 徹
出願人/特許権者： 日本ゼオン株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-118484
公開番号（公開出願番号）：特開平9-281703
出願日： 1996年04月16日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：

【要約】【課題】 膜厚変化の少ないレジスト組成物を提供する。【解決手段】 アルカリ可溶性フェノール樹脂、キノンジアジドスルホン酸エステル系感光剤、およびポリヒドロキシベンゼン類を含有するポジ型レジスト組成物において、アルカリ可溶性フェノール樹脂が(1)フェノール化合物と、(2)非芳香族アルデヒド類と芳香族アルデヒド類とのモル比が3:7〜9:1であるアルデヒド類の混合物との縮合により得られる樹脂であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性フェノール樹脂、キノンジアジドスルホン酸エステル系感光剤、およびポリヒドロキシベンゼン類を含有するポジ型レジスト組成物において、アルカリ可溶性フェノール樹脂が(1)フェノール化合物と、(2)非芳香族アルデヒド類と芳香族アルデヒド類とのモル比が3:7〜9:1であるアルデヒド類の混合物との縮合により得られる樹脂であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/023 511 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/023 511 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/30 502 R